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CMP工藝

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CMP工藝介紹及用濾芯
CMP,即Chemical Mechanical Polishing,化學(xué)機械拋光—是一個(gè)化學(xué)腐蝕和機械摩擦的結合。CMP技術(shù)所采用的設備及消耗品包括:拋光機、拋光漿料、拋光墊、后CMP清洗設備、拋光終點(diǎn)檢測及工藝控制設備、廢物處理和檢測設備等。拋光機、拋光漿料和拋光墊是CMP工藝的3大關(guān)鍵要素,其性能和相互匹配決定CMP能達到的表面平整水平。其工藝過(guò)程中拋光漿料顆??刂圃?.5μm以?xún)?,恒水公司提供的系列過(guò)濾器及折疊濾芯可提供您有效的過(guò)濾解決方案。
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